密閉低溫循環(huán)器是采取機械形式制冷（壓縮機制冷方法）的低溫液體循環(huán)設(shè)備，具有提供低溫液體、低溫水浴的作用?？芍苯永鋮s試管、反應(yīng)瓶等進行低溫下的化學(xué)反應(yīng)，進行化學(xué)品和生物制品低溫貯存，也可結(jié)合雙層玻璃反應(yīng)釜、旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)器、搪瓷反應(yīng)釜，不銹鋼反應(yīng)釜等設(shè)備需要進行多功能低溫條件下的化學(xué)反應(yīng)作業(yè)。
可滿足電子顯微鏡、電子探針、超高真空濺射儀、X光機、激光器、加速齊電燈貴重儀器設(shè)備的降溫需要。對于高純金屬、稀有物質(zhì)提純、環(huán)境實驗及磁控濺射、真空鍍膜等大型精密儀器設(shè)備可提供滿足對溫度和水質(zhì)雙重要求的冷卻水，具有節(jié)能，節(jié)水，防污染，防結(jié)垢的特點，以克服因冷卻水質(zhì)不良、溫度過高，水壓不穩(wěn)造成的貴重儀器設(shè)備無法使用的困難。(可根據(jù)用戶需求定做)
注意事項：
1.開機注意：
開機前加水位不高于容器上邊2厘米處。
2.電源警告：
電源必須符合該設(shè)備要求，并有可靠的接地。
3.水泵注意：
容器內(nèi)無水時或水面過低和凍結(jié)禁止使用。另裝循環(huán)泵時，決不能兩泵管道相串連，關(guān)閉循環(huán)閥時，不能開循環(huán)開關(guān)，避免造成設(shè)備損壞。
4.環(huán)境注意：
設(shè)備周圍必須有足夠的空間，距隔離物的距離不得小于400mm。本機應(yīng)置于通風、干燥、無污染的場所。
5.維護：
打開機殼前，請斷開電源。制冷系統(tǒng)內(nèi)有高壓氣體，非專業(yè)人員不得打開。
技術(shù)指標：
空載最低溫度 | -30℃ | -40℃ | -80℃ | -120℃ | ||
內(nèi)外循環(huán)方式 | 密閉系統(tǒng)循環(huán) | |||||
性能 | 溫度設(shè)定范圍 | ±50℃ | ±99℃ | ±200℃ | ||
溫度調(diào)節(jié)精度 | ±1℃ | ±2℃ | ||||
額定最大冷卻能力（W） | 9820—2820 | 10860—2830 | 11670—1800 | 11880—1200 | ||
循環(huán)能力 | 流量Q=70L/min 揚程6—8m | |||||
控制機能 | 控溫形式 | 電子控溫器 | ||||
設(shè)定方式 | 在控溫范圍內(nèi)任意設(shè)定，顯示值1℃ | |||||
安全保護 | 延時、漏電、過電流、過熱保護 | |||||
主要機構(gòu)性能 | 制冷機組 | 半封閉壓縮機，R22 R404 F23 F14 | ||||
循環(huán)泵 | 功率55W,220V±10%,50HZ | |||||
溫度傳感器 | Pt100鉑電阻 | |||||
工作條件 | 環(huán)境溫度 | 10-30℃ | ||||
濕度 | 60-80% R.H | |||||
工作電流 | 380V±10% 50HZ | |||||
規(guī)格 | 外循環(huán)進出口 | 內(nèi)Φ16mm,材質(zhì)cr | ||||
冷卻槽尺寸（mm） | Φ300 | |||||
整機尺寸（mm） | 1000×800×1100 | 1200×1100×1350 | 1460×1200×1350 | |||
配件 | 保溫導(dǎo)液管 | 2×1500mm | ||||
技術(shù)文件 | 1套 | |||||
| 型號 | 特征 | 攪拌容量 | 攪拌速度 | 加熱溫度 | 控溫方式 | 工作電壓 | 整機尺寸 |
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